माहिती आणि ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्सच्या क्षेत्रातील जलद विकासाने केमिकल मेकॅनिकल पॉलिशिंग (सीएमपी) तंत्रज्ञानाच्या सतत अद्ययावत होण्यास प्रोत्साहन दिले आहे.उपकरणे आणि सामग्री व्यतिरिक्त, अति-उच्च-परिशुद्धता पृष्ठभागांचे संपादन उच्च-कार्यक्षमतेच्या अपघर्षक कणांच्या डिझाइन आणि औद्योगिक उत्पादनावर तसेच संबंधित पॉलिशिंग स्लरी तयार करण्यावर अधिक अवलंबून असते.आणि पृष्ठभागाच्या प्रक्रियेची अचूकता आणि कार्यक्षमतेच्या आवश्यकतांमध्ये सतत सुधारणा झाल्यामुळे, उच्च-कार्यक्षमतेच्या पॉलिशिंग सामग्रीची आवश्यकता देखील अधिकाधिक होत आहे.मायक्रोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणे आणि अचूक ऑप्टिकल घटकांच्या पृष्ठभागाच्या अचूक मशीनिंगमध्ये सिरियम डायऑक्साइडचा मोठ्या प्रमाणावर वापर केला गेला आहे.
Cerium ऑक्साईड पॉलिशिंग पावडर (VK-Ce01) पॉलिशिंग पावडरमध्ये मजबूत कटिंग क्षमता, उच्च पॉलिशिंग कार्यक्षमता, उच्च पॉलिशिंग अचूकता, चांगली पॉलिशिंग गुणवत्ता, स्वच्छ ऑपरेटिंग वातावरण, कमी प्रदूषण, दीर्घ सेवा आयुष्य इत्यादी फायदे आहेत आणि मोठ्या प्रमाणावर वापरले जाते. ऑप्टिकल प्रिसिजन पॉलिशिंग आणि सीएमपी इ. फील्ड अत्यंत महत्त्वाचे स्थान व्यापलेले आहे.
सिरियम ऑक्साईडचे मूलभूत गुणधर्म:
सेरिया, ज्याला सेरिअम ऑक्साईड असेही म्हणतात, हे सेरिअमचे ऑक्साईड आहे.यावेळी, सेरिअमचे व्हॅलेन्स +4 आहे, आणि रासायनिक सूत्र CeO2 आहे.शुद्ध उत्पादन म्हणजे पांढरी जड पावडर किंवा क्यूबिक क्रिस्टल, आणि अशुद्ध उत्पादन हलके पिवळे किंवा अगदी गुलाबी ते तांबूस-तपकिरी पावडर असते (कारण त्यात लॅन्थॅनम, प्रॅसोडायमियम इ.चे प्रमाण असते).खोलीच्या तपमानावर आणि दाबावर, सेरिया हे सेरिअमचे स्थिर ऑक्साइड आहे.Cerium +3 व्हॅलेन्स Ce2O3 देखील बनवू शकते, जो अस्थिर आहे आणि O2 सह स्थिर CeO2 तयार करेल.सेरिअम ऑक्साईड पाण्यात, अल्कली आणि आम्लात किंचित विरघळते.घनता 7.132 g/cm3 आहे, वितळण्याचा बिंदू 2600℃ आहे, आणि उत्कलन बिंदू 3500℃ आहे.
सिरियम ऑक्साईडची पॉलिशिंग यंत्रणा
CeO2 कणांची कडकपणा जास्त नाही.खालील तक्त्यामध्ये दर्शविल्याप्रमाणे, सेरिअम ऑक्साईडची कडकपणा डायमंड आणि अॅल्युमिनियम ऑक्साईडच्या तुलनेत खूपच कमी आहे आणि झिरकोनियम ऑक्साईड आणि सिलिकॉन ऑक्साईडपेक्षाही कमी आहे, जे फेरिक ऑक्साईडच्या समतुल्य आहे.त्यामुळे सिलिकॉन ऑक्साईड-आधारित सामग्री, जसे की सिलिकेट ग्लास, क्वार्ट्ज ग्लास इ., फक्त यांत्रिक दृष्टिकोनातून कमी कडकपणा असलेल्या सेरियासह काढून टाकणे तांत्रिकदृष्ट्या व्यवहार्य नाही.तथापि, सिलिकॉन ऑक्साईड-आधारित सामग्री किंवा अगदी सिलिकॉन नायट्राइड सामग्री पॉलिश करण्यासाठी सेरिअम ऑक्साईड हे सध्या पसंतीचे पॉलिशिंग पावडर आहे.हे पाहिले जाऊ शकते की सेरियम ऑक्साईड पॉलिशिंगचे यांत्रिक प्रभावांव्यतिरिक्त इतर प्रभाव देखील आहेत.हिऱ्याची कडकपणा, जी सामान्यतः वापरली जाणारी ग्राइंडिंग आणि पॉलिशिंग सामग्री आहे, सहसा CeO2 जाळीमध्ये ऑक्सिजनची रिक्त जागा असते, ज्यामुळे त्याचे भौतिक आणि रासायनिक गुणधर्म बदलतात आणि पॉलिशिंग गुणधर्मांवर विशिष्ट प्रभाव पडतो.सामान्यतः वापरल्या जाणार्‍या सेरियम ऑक्साईड पॉलिशिंग पावडरमध्ये विशिष्ट प्रमाणात इतर दुर्मिळ पृथ्वी ऑक्साईड असतात.Praseodymium ऑक्साईड (Pr6O11) मध्ये चेहरा-केंद्रित घन जाळीची रचना देखील आहे, जी पॉलिश करण्यासाठी योग्य आहे, तर इतर लॅन्थानाइड दुर्मिळ पृथ्वी ऑक्साईडमध्ये पॉलिश करण्याची क्षमता नसते.CeO2 ची स्फटिक रचना न बदलता, ते एका विशिष्ट मर्यादेत त्याच्यासह ठोस द्रावण तयार करू शकते.उच्च-शुद्धतेच्या नॅनो-सेरियम ऑक्साईड पॉलिशिंग पावडरसाठी (VK-Ce01), सेरिअम ऑक्साईड (VK-Ce01) ची शुद्धता जितकी जास्त असेल तितकी पॉलिशिंग क्षमता आणि दीर्घ सेवा आयुष्य, विशेषत: हार्ड ग्लास आणि क्वार्ट्ज ऑप्टिकल लेन्ससाठी बराच वेळचक्रीय पॉलिशिंग करताना, उच्च-शुद्धता सिरियम ऑक्साईड पॉलिशिंग पावडर (VK-Ce01) वापरण्याचा सल्ला दिला जातो.
सिरियम ऑक्साईड पॉलिशिंग पावडरचा वापर:
Cerium ऑक्साईड पॉलिशिंग पावडर (VK-Ce01), मुख्यत्वे काचेच्या उत्पादनांना पॉलिश करण्यासाठी वापरली जाते, ती प्रामुख्याने खालील क्षेत्रांमध्ये वापरली जाते:
1. चष्मा, काचेच्या लेन्स पॉलिशिंग;
2. ऑप्टिकल लेन्स, ऑप्टिकल ग्लास, लेन्स, इ.;
3. मोबाईल फोन स्क्रीन ग्लास, घड्याळाची पृष्ठभाग (घड्याळाचे दार), इ.;
4. एलसीडी मॉनिटर सर्व प्रकारच्या एलसीडी स्क्रीन;
5. स्फटिक, गरम हिरे (कार्ड, जीन्सवर हिरे), लाइटिंग बॉल्स (मोठ्या हॉलमध्ये लक्झरी झूमर);
6. क्रिस्टल हस्तकला;
7. जेडचे आंशिक पॉलिशिंग
वर्तमान सिरियम ऑक्साईड पॉलिशिंग डेरिव्हेटिव्ह्ज:
ऑप्टिकल ग्लासच्या पॉलिशिंगमध्ये लक्षणीय सुधारणा करण्यासाठी सेरिअम ऑक्साईडची पृष्ठभाग अॅल्युमिनियमसह डोप केली जाते.
अर्बनमाइन्स टेकचा तंत्रज्ञान संशोधन आणि विकास विभाग.लिमिटेड, ने प्रस्तावित केले की पॉलिशिंग कणांचे कंपाऊंडिंग आणि पृष्ठभाग बदल हे CMP पॉलिशिंगची कार्यक्षमता आणि अचूकता सुधारण्यासाठी मुख्य पद्धती आणि दृष्टिकोन आहेत.कारण कणांच्या गुणधर्मांना बहु-घटक घटकांच्या मिश्रणाने ट्यून केले जाऊ शकते, आणि पॉलिशिंग स्लरीची फैलाव स्थिरता आणि पॉलिशिंग कार्यक्षमता पृष्ठभागाच्या बदलाद्वारे सुधारली जाऊ शकते.TiO2 सह डोप केलेल्या CeO2 पावडरची तयारी आणि पॉलिशिंग कार्यक्षमता 50% पेक्षा जास्त पॉलिशिंग कार्यक्षमतेत सुधारू शकते आणि त्याच वेळी, पृष्ठभागावरील दोष देखील 80% ने कमी होतात.CeO2 ZrO2 आणि SiO2 2CeO2 संमिश्र ऑक्साईड्सचा समन्वयात्मक पॉलिशिंग प्रभाव;त्यामुळे नवीन पॉलिशिंग मटेरिअलच्या विकासासाठी आणि पॉलिशिंग मेकॅनिझमच्या चर्चेसाठी डोपेड सेरिया मायक्रो-नॅनो कंपोझिट ऑक्साइड तयार करण्याचे तंत्रज्ञान खूप महत्त्वाचे आहे.डोपिंगच्या प्रमाणाव्यतिरिक्त, संश्लेषित कणांमधील डोपंटची स्थिती आणि वितरण देखील त्यांच्या पृष्ठभागाच्या गुणधर्मांवर आणि पॉलिशिंग कार्यक्षमतेवर मोठ्या प्रमाणात परिणाम करते.
त्यापैकी, क्लॅडिंग स्ट्रक्चरसह पॉलिशिंग कणांचे संश्लेषण अधिक आकर्षक आहे.म्हणून, सिंथेटिक पद्धती आणि शर्तींची निवड देखील खूप महत्वाची आहे, विशेषत: त्या पद्धती ज्या सोप्या आणि खर्च-प्रभावी आहेत.मुख्य कच्चा माल म्हणून हायड्रेटेड सिरियम कार्बोनेटचा वापर करून, अॅल्युमिनियम-डोपेड सिरियम ऑक्साईड पॉलिशिंग कण ओले सॉलिड-फेज मेकॅनोकेमिकल पद्धतीने संश्लेषित केले गेले.यांत्रिक शक्तीच्या कृती अंतर्गत, हायड्रेटेड सिरियम कार्बोनेटचे मोठे कण बारीक कणांमध्ये क्लीव्ह केले जाऊ शकतात, तर अॅल्युमिनियम नायट्रेट अमोनियाच्या पाण्याशी विक्रिया करून आकारहीन कोलाइडल कण तयार करतात.कोलोइडल कण सहजपणे सेरिअम कार्बोनेट कणांशी जोडलेले असतात आणि कोरडे आणि कॅल्सीनेशन केल्यानंतर, अॅल्युमिनियम डोपिंग सिरियम ऑक्साईडच्या पृष्ठभागावर मिळवता येते.ही पद्धत वेगवेगळ्या प्रमाणात अॅल्युमिनियम डोपिंगसह सेरिअम ऑक्साईड कणांचे संश्लेषण करण्यासाठी वापरली गेली आणि त्यांचे पॉलिशिंग कार्यप्रदर्शन वैशिष्ट्यीकृत केले गेले.सिरियम ऑक्साईड कणांच्या पृष्ठभागावर योग्य प्रमाणात अॅल्युमिनियम जोडल्यानंतर, पृष्ठभागाच्या संभाव्यतेचे नकारात्मक मूल्य वाढेल, ज्यामुळे अपघर्षक कणांमधील अंतर वाढेल.मजबूत इलेक्ट्रोस्टॅटिक प्रतिकर्षण आहे, जे अपघर्षक निलंबन स्थिरता सुधारण्यास प्रोत्साहन देते.त्याच वेळी, अपघर्षक कण आणि कुलॉम्ब आकर्षणाद्वारे सकारात्मक चार्ज केलेले मऊ थर यांच्यातील परस्पर शोषण देखील मजबूत केले जाईल, जे पॉलिश काचेच्या पृष्ठभागावरील अपघर्षक आणि मऊ थर यांच्यातील परस्पर संपर्कासाठी फायदेशीर आहे आणि प्रोत्साहन देते. पॉलिशिंग दरात सुधारणा.